深圳市利方达科技有限公司

 
当前位置:首页 >>新闻资讯 >>

国仪兴科技申请光刻机阶梯温度模糊控制专利,提升光刻机温度控制精度及稳定性

2026年02月12日 06:17
 

国家知识产权局信息显示,深圳市国仪兴科技有限公司申请一项名为“光刻机的阶梯温度模糊控制方法及控制装置”的专利,公开号CN121276897A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明公开了光刻机的阶梯温度模糊控制方法及控制装置,涉及温度控制相关技术领域,方法包括:在光刻机的温度执行单元设置初始阶梯温度模糊控制策略并通过阶梯模糊控制器执行;实时采集干扰信号,提取干扰特征向量;检测当前执行阶梯温度模糊控制策略并对干扰特征向量进行阶梯‑干扰兼容性评估;若阶梯‑干扰兼容性指标小于预设兼容性指标阈值,对当前执行阶梯温度模糊控制策略进行温度模糊控制参数调节,得到更新后的当前执行阶梯温度模糊控制策略。解决了现有技术中存在的光刻机面对复杂多变、特征各异的动态干扰时,温度控制精度及稳定性不足的技术问题,实现动态自调整阶梯模糊控制策略,达到了提升光刻机温度控制精度及稳定性的技术效果。

天眼查资料显示,深圳市国仪兴科技有限公司,成立于2023年,位于深圳市,是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳市国仪兴科技有限公司参与招投标项目3次,专利信息11条,此外企业还拥有行政许可4个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。